ASTM F1239-2002 通过测量晶隙氧还原表征硅片氧沉淀的标准试验方法

作者:标准资料网时间:2024-05-10 01:34:32 浏览:9141 来源:标准资料网

【英文标准名称】:StandardTestMethodsforOxygenPrecipitationCharacterizationofSiliconWafersbyMeasurementofInterstitialOxygenReduction
【原文标准名称】:通过测量晶隙氧还原表征硅片氧沉淀的标准试验方法
【标准号】:ASTMF1239-2002
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:2002
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.06
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:氧;硅片;微电子学;特性;检验
【英文主题词】:deltaO;interstitialoxygen;oxygenprecipitation;oxygenreduction;silicon
【摘要】:ThisstandardwastransferredtoSEMI(www.semi.org)May20031.1Thesetestmethodscovercomplementaryproceduresfortestingtheoxygenprecipitationcharacteristicsofsiliconwafers.Itisassumedthattheprecipitationcharacteristicsarer
【中国标准分类号】:H82
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:5P.;A4
【正文语种】:

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